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真空镀膜机工作原理及结构介绍


    真空镀膜机工作原理及结构介绍，真镀膜机是现在制造真空条件使用较为广泛的设备。其有关构成及各部件：机械泵、增压泵、油分散泵、冷凝泵、真空丈量系统.

    真镀膜机原理

    真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

    真空镀膜机各部分的组成

    一、真空主体——真空腔

    依据加工商品请求的各异，真空腔的大小也不一样，现在使用较多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔体由不锈钢资料制造，请求不生锈、坚实等，真空腔各部分有衔接阀，用来衔接各抽气泵浦。

    二、辅助抽气系统

    此排气系统选用“分散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”构成排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA摆布的低真空状况，为分散泵后继抽真空供给条件，以后当分散泵抽真空腔的时分，机械泵又配合油分散泵构成串联，以这么的方式完成抽气动作。

    排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，首要有由机械泵、增压泵(首要介绍罗茨泵)、油分散泵三大多数构成。

    机械泵：也叫前级泵，机械泵是使用较广泛的一种低真空泵，它是用油来坚持密封效果并依托机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断胀大然后取得真空。

    机械泵有很多种，常用的有滑阀式(此首要使用于大型设备)、活塞往复式、定片式和旋片式(此现在使用较广泛，这篇文章首要介绍)四种类型。
无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是**均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响较小化。
在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化较小化等方面。
现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。
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